勻膠機(jī)旋涂?jī)x工作原理：

 

　　勻膠機(jī)旋涂?jī)x廣泛應(yīng)用于MEMS微加工，生物，材料等領(lǐng)域，它可以用來(lái)制備厚度小于10納米薄膜。也常應(yīng)用在約1-100微米厚光刻膠沉積層的光刻工藝中。

 

　　許多平面基底材料都可以用來(lái)涂覆如：半導(dǎo)體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導(dǎo)電玻璃等等。

 

　　通過(guò)在片托上產(chǎn)生負(fù)壓，將需要旋涂的基底材料吸附在片托上，膠液滴注在基底材料的表面，通過(guò)精確調(diào)節(jié)電機(jī)的旋轉(zhuǎn)速度，以此來(lái)改變離心力大小，同時(shí)通過(guò)滴膠裝置控制膠液的流量，來(lái)達(dá)到制備薄膜所需的厚度，另外薄膜厚度也取決于旋涂時(shí)間，膠液的粘度，涂覆的溫度和濕度等環(huán)境因素。目前汶顥生產(chǎn)的WH-SC-01勻膠機(jī)可以采用全觸摸屏控制，三檔轉(zhuǎn)速。在啟動(dòng)之后先在低轉(zhuǎn)速下進(jìn)行勻膠，之后切換至高速下進(jìn)行甩膠，轉(zhuǎn)速及相應(yīng)的時(shí)間分別可調(diào)；實(shí)現(xiàn)啟停可控，轉(zhuǎn)速實(shí)時(shí)觀察等功能，同時(shí)WH-SC-01勻膠機(jī)啟動(dòng)迅速及穩(wěn)定的轉(zhuǎn)速，能夠保證膠厚度的一致性和均勻性。

 

　　影響勻膠機(jī)性能的關(guān)鍵參數(shù)：

 

　　1、旋轉(zhuǎn)速度：轉(zhuǎn)速的高低和控制精度直接關(guān)系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。如果標(biāo)示的轉(zhuǎn)速和電機(jī)的實(shí)際轉(zhuǎn)速如果誤差很大，對(duì)于要求精密涂覆的科研人員來(lái)說(shuō)是無(wú)法獲得準(zhǔn)確的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的。

 

　　2、真空吸附系統(tǒng)的構(gòu)造與清洗

 

　　無(wú)憂真空泵壓力標(biāo)定要準(zhǔn)確，如果真空吸附力降低，會(huì)導(dǎo)致基底吸附不住而產(chǎn)生“飛片”的情況，還會(huì)讓滴膠液不慎進(jìn)入真空管道系統(tǒng)造成完全堵塞。勻膠機(jī)的清洗問(wèn)題，在使用完勻膠機(jī)后，在泵打開的前提下，要用有機(jī)溶液如：丙酮，酒精等清洗氣孔。

 

　　3、片托材質(zhì)的選擇

 

　　對(duì)于半導(dǎo)體化工行業(yè)的應(yīng)用來(lái)說(shuō)，片托材質(zhì)的選擇尤為關(guān)鍵，大部分勻膠機(jī)片托采用的是鋁合金或者普通塑料材質(zhì)，因?yàn)檫@種材質(zhì)的成本很低，鋁合金對(duì)于各類化工膠液的抗腐蝕性不太好，塑料對(duì)于較高溫度和壓力下易產(chǎn)生變形。如果這種變形引起托盤的位置失去水平的話，將會(huì)導(dǎo)致旋涂時(shí)，時(shí)高時(shí)低的顛簸狀態(tài)。自然無(wú)法得到好的旋涂效果。目采用天然聚丙烯或者聚四氟乙烯(特氟隆)材質(zhì)。這兩種材質(zhì)具備綠色環(huán)保、節(jié)約資源、重量輕、強(qiáng)度大、抗沖擊性能好、堅(jiān)固耐用、花紋自然、光澤度好等優(yōu)點(diǎn)。

 

　　影響旋涂薄膜厚度的因素：

 

　　1.將膠液滴注在基底材料的表面?？梢酝ㄟ^(guò)注射器噴嘴，將待涂覆的溶液或者膠液噴灑或者滴注到基底材料表面。滴注的膠液量通常要要遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)最終涂覆在表面的膠液量。

 

　　2.通過(guò)極快極短地加速，使基底材料的旋轉(zhuǎn)速度，快速達(dá)到設(shè)定的期望的理想轉(zhuǎn)速。

 

　　3.以設(shè)定恒定的速率和時(shí)長(zhǎng)旋轉(zhuǎn)基底，通過(guò)改變膠液的黏度力來(lái)改變薄膜的厚度。

 

　　4.以設(shè)定恒定的速率和時(shí)長(zhǎng)旋轉(zhuǎn)基底，通過(guò)膠液的揮發(fā)性來(lái)改變薄膜的厚度。

 

　　5.旋涂時(shí)間不變，通過(guò)改變旋轉(zhuǎn)基底的速度，改變薄膜的厚度。

 

　　6.旋涂速度不變，通過(guò)改變基底旋轉(zhuǎn)的時(shí)間，改變薄膜的厚度。