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曝光機工作原理

時間: 2018-05-12 16:56:00   點擊:
  曝光機是20世紀60年初掃描電子顯微鏡基礎發(fā)展而來的一種新光刻技術,在70年代后廣泛應用于半導體電路板生產制造。曝光機即電子串曝光機,是集電子光學、機械、真空、電氣、計算機技術等于一體的復雜的半導體加工設備。
 
  曝光機基本工作原理:
 
  在計算機的控制下,利用聚焦電子束對有機聚合物(通常稱為電子抗蝕劑或光刻膠)進行曝光,受電子束輻照后的光刻膠,其物理化學性質發(fā)生變化,在一定的溶劑中形成良溶或非良溶區(qū)域,從而在抗蝕劑上形成精細圖形。根據(jù)電路板的線路的粗細來決定上下光源的曝光能量,能量不足電路板無法曝光,要是能量過高電路板就會過曝,所以在曝光電路板時,必須先測試電路板所需的能量,從而進行電路板的曝光生產。
 
  LED曝光機的優(yōu)點:
 
  1、均勻度90%以上;
 
  2、線路板解析度可達到50μm。
 
  3、節(jié)能80%,四年內無需更換燈管,無冷卻水消耗;
 
  4、緊密的光學組合,使光源投射的平行半角小于2°;
 
  5、曝光面積為:1000mm×750mm/1300mm×750mm/1500mm×750mm;
 
  6、真空蓋板自動升起,避免員工繁重的體力勞動;
 
  7、LED逐點校正系統(tǒng)實時,實時監(jiān)控每個發(fā)光單元的強度狀態(tài);
 
  8、超高能量,能有效取代8KW/10KW12KW傳統(tǒng)汞燈阻焊曝光機,曝光時間為20秒;

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